Interdisziplinäres Zentrum für Materialwissenschaften
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      Nanotechnikum
Martin-Luther-Universität
Interdisziplinäres Zentrum für Materialwissenschaften
Nanotechnikum Weinberg
Heinrich-Damerow-Str. 4,
D-06120 Halle, Germany
Tel.: +49 345 55 28471
Telefax:+49 345 55 27390 email: info@cmat.uni-halle.de
  • Niederspannungsrasterelektronenmikroskopie (Zeiss Gemini 500) in Kombination mit EDX (Oxford Ultim Max & Oxford Extreme) und EBSD (Oxford C-Nano)
    Feldemissionsrasterelektronenmikroskop zur höchstaufgelösten Oberflächenabbildung auch bei niedrigen Primärstrahlenergien: 0,05…30 kV, Strahldurchmesser 1 nm @ 500V, 0.9 nm @ 1 kV; variable pressure Modus zur Verminderung von Probenaufladungen; hocheffizienter festerloser EDX-Detektor (SDD) mit Elementdetektion bis hin zu Lithium
  • Rasterelektronenmikroskopie unter "atmosphärischen" Bedingungen (Phillips XL30 ESEM FEG)
    Feldemissionsrasterelektronenmikroskop zur Oberflächenabbildung von Proben auch unter Gasatmosphäre (ESEM-Mode), Primärstrahlenergie: 0,5…30 kV, Strahldurchmesser: 2 nm @ 30 kV, 5nm @ 1 kV, Druckbereich: Hochvakuum oder 0,3…10 Torr (ESEM), Temperaturbereich: -5…60 °C; EDX (EDAX-SiLi-Detektor)
  • Kombinierte Rasterelektronenmikroskopie mit fokussiertem Ionenstrahl (FEI Versa 3D) [*]
    Universelles Focussed Ion Beam-Gerät zur Nanopräparation und Inspektion; Schottky- Feldemitter-Kathode 0,2…30 kV; Hochstromionensäule mit Ga-Ionenquelle: 0.5..30kV bei 0.6pA...60nA, 7 nm Ionenstrahlauflösung bei 30 kV; in-situ Mikromanipulator; GIS-System zur Abscheidung von C, Pt, W; EDX (EDAX Octane Elite)
  • Transmissionselektronenmikroskopie (Zeiss LEO 912) [*]
    Abbildendes Transmissionselektronenmikroskop mit Energiefilter und LaB6-Kathode, Primärstrahlenergie: 80…120 keV, 2k-Slow Scan CCD-Kamera, Punktauflösung 3.7 Å (TEM-Mode)
  • Klassische TEM- und SEM-Präparation für Festkörperproben
    Fadensägen, Ultraschallbohrer, Schleif- und Poliergeräte, Dimpler;
    Ar-Ionenätzer (Precision Ion Polishing System Gatan 691);
    Kohlenstoffbeschichtung (Cressington 208 carbon coater); Metallbeschichtung (Cressington 208HR sputter coater);
    kombiniertes Ätz- und Beschichtungssystem zum Polieren und Freilegen von Oberflächen, Böschungsätzverfahren, hochauflösende in-situ-Ionen-Sputterbeschichtung (Gatan Precision Etching and Coating System PECS)
  • Lichtmikroskopie und Bildverarbeitung
    Lichtmikroskope mit Kamera zur Hellfeld-, Dunkelfeld- und Polarisationsmikroskopie in Verbindung mit einem SIS analysis Bildverarbeitungssystem, differentiellem Interferenzkontrast, Extended focal imaging, Objektive 5x...100x (Leica DM RXE & Zeiss Auflichtmikroskop Axio Imager)
  • Elektrische Messungen
    Spitzenmessplatz mit Mikromanipulatoren zur Widerstandsmessung an Mikrostrukturen, Vierspitzenmethode

* in Zusammenarbeit mit dem ZIK SiliNano und dem Institut für Physik



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