Interdisziplinäres Zentrum für Materialwissenschaften
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Martin-Luther-Universität
Interdisziplinäres Zentrum für Materialwissenschaften
Nanotechnikum Weinberg
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Röntgen-Reflektometrie

Prinzip

Prinzip XRR

Ausstattung

  • Göbelspiegel
  • Eulerwiege mit Probentisch für 5"Wafer

Parameter

Untersuchungsmöglichkeiten

  • Aufnahme von Reflexionskurven

Anwendungsgebiete

  • Untersuchung von dönnen Schichten
    • Schichtdicke
    • Relaxation
    • Rauhigkeit

Beispiel: Reflexionskurve

Ge-Schicht auf Si-Substrat

Reflexionskurve Ge auf Si

Bild der Anlage

D8 im XRR-Mode

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